汎銓科技於 25 日正式向智慧財產及商業法院提告光焱科技，指控其侵犯汎銓擁有的「光損偵測裝置」發明專利（中華民國第 1870008 號）。汎銓主張光焱科技的設備及技術方案涉及侵權，並請求新台幣 2 億元損害賠償，以捍衛其在半導體高階先進製程與矽光子檢測領域的關鍵智慧財產權。
專利訴訟核心：汎銓科技捍衛矽光子關鍵技術
汎銓科技指出，台灣半導體產業在全球素有「護國群山」美譽，而汎銓正是專攻半導體高階先進製程材料檢測分析，以及 AI 與矽光子檢測等具備全球領導地位的業務領域。公司業務範圍涵蓋美國、台灣、日本等重要的半導體與 AI 市場，如今其在全球領先的關鍵技術專利面臨侵權挑戰，因此不得不採取法律途徑，尋求合理保護與賠償。汎銓強調，此舉是為了避免台灣重要的科技產業技術遭受恣意損害甚至外流，進而衝擊台灣在國際上的立足根本。
為了遏止光焱科技持續侵害智慧財產權，並防範可能因違法行為遭漠視而引發技術機密外洩等更嚴重的疑慮，汎銓基於維護整體科技產業價值與公司利害關係人權益的立場，訴請法院判決相關被告公司與人員立即停止所有侵權行為。同時，汎銓也提出新台幣 2 億元的損害賠償請求，展現台灣科技產業對專利與營業秘密採取最高標準捍衛的決心。
你可能會問，為何這項專利如此重要？汎銓自主研發的「光損偵測裝置」技術，已成功取得台灣、日本及美國的發明專利。這項技術能精準量測並定位矽光子元件在光傳輸過程中的損耗位置，對於矽光子晶片、光電整合模組及高速光通訊元件的研發驗證與量產測試，都具有關鍵的技術價值。
技術實力與市場佈局：「光損偵測裝置」的獨特優勢
汎銓科技董事長柳紀倫表示，早在 2025 年 6 月，曾有另一家同業向專利局提出 17 項舉證，試圖撤銷汎銓的專利。然而，經過審慎判定，專利局已於 2025 年 11 月確認汎銓的專利依然有效存在，這也證明了其專利「護城河」的強固性。隨著 AI 資料中心與高速運算對矽光子技術需求的快速提升，汎銓除了持續提供研發端的矽光子量測與光損定位分析服務，也同步擴展營運模式，開始製造銷售量產端（PD）及品質驗證（QA）所需的矽光子測試設備「MSS HG」。
柳紀倫進一步指出，汎銓已結合先進材料分析、AI 晶片分析平台與矽光子量測技術，逐步建立完整的矽光子檢測與測試設備技術平台。他看好 AI 伺服器、高速資料中心及先進封裝對光互連需求的顯著成長，矽光子技術被視為下一世代高頻寬、低功耗資料傳輸的核心技術之一。汎銓憑藉其獨家的光損定位技術，成功卡位成為整個矽光子故障分析（FA）的「入海口」，因為若無法找到光損位置，便無法進行後續分析。目前，汎銓在分析端的市佔率高達 90% 以上，幾乎呈現寡占狀態，其廠內建置的三台檢測設備，已分別為重要客戶及美國最大的 AI 公司服務長達六年與兩年，技術成熟度與客戶認同度都非常高。
產業觀察與後續發展
展望未來，汎銓不僅將固守研發端的分析服務，更計畫進軍設備銷售市場。公司預計於 2026 年底舉辦機台發表會，並於同年底至 2027 年間正式推出適用於量產端的設備。為了符合商用標準，新機台正進行外觀與機構的升級，包括採用黑色鋼琴烤漆外殼、優化內部理線以利後續維護，並將導入自製的可升降載台，以滿足 12 片矽光子晶片自動測量與 CPO 降階等不同的測試需求。柳紀倫強調，未來無論是引進日本或美國的設備，只要侵犯其核心專利，不論對方公司規模多大，汎銓皆會採取法律行動提告到底，堅定捍衛公司的智慧財產權。
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