一句話總結：汎銓科技已於2026年3月25日正式對光焱科技提起訴訟，指控其侵犯「光損偵測裝置」發明專利，並求償新台幣2億元，以捍衛其在半導體高階檢測領域的智慧財產權與競爭優勢。
核心要點
- 訴訟啟動時間：汎銓科技於2026年3月25日正式向智慧財產及商業法院提起訴訟，控告光焱科技侵權。
- 侵權標的明確：此訴訟核心在於光焱科技涉及侵犯汎銓所擁有之中華民國第 I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，涵蓋相關設備與技術方案。
- 求償金額巨大：汎銓科技針對此次專利侵權行為，向法院訴請相關被告公司及人等立即停止所有侵權行為，並請求高達新台幣2億元的損害賠償。
- 專利技術領先：汎銓董事長柳紀綸強調，公司自主研發的「光損偵測裝置」技術，已成功取得台灣、日本的發明專利，近日更進一步正式取得美國發明專利。
- 技術應用廣泛：該項「光損偵測裝置」技術已成功組裝3台矽光子量測分析設備，展現其在先進半導體檢測領域的實用價值。
- 捍衛產業價值：汎銓科技此次提告，旨在避免智慧財產權持續受侵害，並防範可能因違法行為引發的技術與重要機密外洩疑慮，以維護台灣科技產業的整體價值與公司利害關係人權益。
- 汎銓產業地位：汎銓科技在半導體核心高階先進製程材料檢測分析，以及AI暨矽光子檢測等領域，具備全球領導能力，業務範圍涵蓋美國、台灣、日本等主要半導體市場。
一句話結論
這起高額專利侵權訴訟不僅突顯了半導體產業智慧財產權保護的重要性，也預示著高階檢測技術領域的競爭將更加白熱化，對兩家公司的未來發展均將產生深遠影響。
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